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暴露【200】晶面的单晶四方体型OMS-2纳米材料的制备方法

发布时间: 2019-06-06 14:42:23    浏览次数:次

  • 暴露【200】晶面的单晶四方体型OMS-2纳米材料的制备方法
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  • 成果完成人:专利号:201410260220.8
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技术成果简介:

本发明公开了一种暴露[200]晶面的单晶四方体型OMS-2纳米材料的制备方法。在室温条件下,向0.02mmol高锰酸钾溶液中滴加0.02mmol醛类物质,反应物摩尔比为1:1,滴加完毕后继续搅拌12-24h,抽滤;水洗;无水乙醇洗,所得产品于马弗炉500℃-600℃焙烧4-6h,得到暴露[200]晶面的单晶四方体型OMS-2纳米材料。该方法设备简单,成本低廉,无环境污染,反应条件温和,易于大规模生产。所制备的催化剂材料对邻二甲苯表现出较好的低温活性,可在200℃-230℃时,将邻二甲苯完全转化为CO2和H2O。该类材料还可以在吸附、催化、分子筛和电极材料等领域具有重要的应用价值。